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接合用活性金属ペースト(窒素焼成)

接合用活性金属ペースト(窒素焼成)

    セラミックス基板との接合に活性金属ロウ材AgCuTiを用いた厚膜ペーストです。アルミナや窒化アルミニウム等のセラミックスをはじめ、窒化珪素にも接合できます。活性金属ペーストの上に銅ペーストを積み重ねることで超厚膜導体形成が可能です(ペースト印刷加工に関するページはこちらです。)。活性金属ペーストを接合層としたセラミックス基板と銅板の貼り合わせも可能です。

特長

・窒素雰囲気修正に対応
・高密着、高信頼性
・鉛(Pb)の環境負荷物質を含まない
・焼成温度:750~900℃
・Cu厚膜積層(約300μm)が可能。

・活性金属ペーストを用いた銅板と窒化珪素(Si3N4)基板の接合サンプル

・活性金属ペーストを用いた銅板と窒化珪素(Si3N4)基板の接合サンプル

・左写真の接合断面SEM画像

・左写真の接合断面SEM画像

・活性金属ペーストを接合層に用いた銅ペースト厚膜(300μm)焼成基板

・活性金属ペーストを接合層に用いた銅ペースト厚膜(300μm)焼成基板

・左写真の断面SEM画像

・左写真の断面SEM画像

想定用途

・パワーデバイス用セラミック放熱回路パッケージ

注意事項

・焼成は窒素雰囲気下にて行って下さい。
・その他取り扱い上の注意は、各製品の製品安全データシート(SDS)に従うものとします。

備考

・委託焼成を承っております。窒素置換炉をお持ちでない場合はお申しつけ下さい。